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  • Park
    XE7
    AFM 仕様

Park XE7 仕様

スキャナ

Zスキャナ
フレクチャーガイド式高力スキャナ
スキャン範囲:12 ㎛(オプションにて25 ㎛)

XYスキャナ
クローズドループ制御付きシングルモジュールのフレクチャー式XYスキャナ
スキャン範囲:50 ㎛ x 50 ㎛ (オプションにて10 ㎛ x 10 ㎛、もしくは100 ㎛ x 100 ㎛)

 

ステージ

XYステージ移動距離:
13 mm x 13 mm
Zステージ移動距離:29.5 mm

 

光学系

試料表面とカンチレバーの直上観察対物レンズ
視野:480 ㎛ x 360 ㎛(10x対物レンズ使用の場合)
CCD:1.2Mピクセル(デフォルト)、5Mピクセル(オプション;視野:840 ㎛ x 630 ㎛ )

 

サンプルマウント

サンプルサイズ:最大100 mmまで
厚さ:最大20 mmまで

 

エレクトロニクス

信号処理

ADC: 20チャンネル
16ビットADC (X、Y、およびZスキャナポジションセンサー用)

DAC: 21チャンネル
16ビットDAC (X、Y、およびZスキャナ位置制御用)

内蔵機能

アクティブQコントロール(オプション)
カンチレバーバネ定数キャリブレーション(オプション)
シグナルアクセスモジュール(オプション)

 

オプション/モード

トポグラフィーイメージング

ノンコンタクトモード
コンタクトモード
タッピングモード

磁気特性

磁気力顕微鏡(MFM)
可変MFM

電気特性

コンダクティブAFM(C-AFM)
I/Vスペクトロスコピー
ケルビンプローブ顕微鏡(KPFM)
高電圧KPFM
走査型キャパシタンス顕微鏡(SCM)
走査型拡がり抵抗顕微鏡(SSRM)
走査型トンネリング顕微鏡(STM)
フォトカレントマッピング(PCM)
電気力顕微鏡(EFM)

熱特性

走査型サーマル顕微鏡(SThM)

誘電体/圧電特性

圧電応答力顕微鏡(PFM)
高電圧PFM
圧電応答スペクトロスコピー

機械特性

フォースモジュレーション顕微鏡(FMM)
ナノインデンテーション
ナノリソグラフィ
高電圧ナノリソグラフィ
ナノマニピュレーション
摩擦力顕微鏡(LFM)
フォースディスタンス(F/d)スペクトロスコピー
フォースボリュームイメージング

化学特性

化学力顕微鏡(機能化チップ付き)
EC-AFM

 

ソフトウェア

Park SmartScan™

AFMシステム制御、およびデータ取得ソフトウェア
すばやいセットアップと簡単なイメージングのための自動モード
よりエキスパートな用途と詳細なスキャン制御のためのマニュアルモード

XEI

AFMデータ解析ソフトウェア
スタンドアローン式―AFMから離れたところでもインストール、および分析が可能
取得したデータの3Dレンダリング出力可能

 

アクセサリ

電気化学セル
温度制御機能付きユニバーサル液体セル
温度制御機能付きステージ
グローブボックス
磁界発生器

 

XE7-仕様